鄧海教授到上海有機所作交叉學科講座第五十五講
12月14日，復(fù)旦大學鄧海教授應(yīng)邀到上海有機所作交叉學科講座，在君謀樓報告廳做了主題為“High Resolution Litho Patterning Materials Development”的精彩報告。唐勇研究員主持了講座，所內(nèi)近兩百名科研人員和學生參加了此次學術(shù)活動。
報告前唐勇研究員向大家介紹了鄧海的履歷，并將上海有機所交叉學科講座紀念牌頒發(fā)給鄧海教授。
鄧海教授結(jié)合自己多年的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗，向大家介紹了90nm/65nm/55nm節(jié)點ArF光刻膠和10～5nm分辨率DSA光刻圖形化材料的研發(fā)進展，鄧海教授談到，跟隨摩爾定律發(fā)展，半導(dǎo)體光刻分辨率不斷提高，已經(jīng)達到了7nm節(jié)點，臺積電明年進入5nm節(jié)點的芯片量產(chǎn)。90nm-38nm分辨率的ArF光刻膠是核心關(guān)鍵材料、也是卡脖子材料、完全依賴于進口。鄧海教授產(chǎn)業(yè)化團隊致力于國產(chǎn)ArF光刻膠的自主研發(fā)，成功開發(fā)出ArF光刻膠，產(chǎn)品性能已經(jīng)與商用光刻膠相當。同時，鄧教授課題組研發(fā)10～5nmLS的DSA圖形化材料。合成了一系列具有5 nm分辨率的DSA材料。該材料可以在80°C 1 min熱退火后形成5nm線條圖形、為世界上圖形化速度最快的DSA材料、有望在3nm節(jié)點（10nm以下分辨率）及以下的半導(dǎo)體工藝中得到應(yīng)用。
最后，鄧海教授結(jié)合自己在半導(dǎo)體光刻行業(yè)工作20年的實際經(jīng)驗，分享了自己的心得體會，并對光刻膠產(chǎn)業(yè)進行了展望。
鄧海教授面向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界需求，研發(fā)ArF光刻膠，填補了國內(nèi)空白，報告內(nèi)容聚焦學術(shù)前沿、內(nèi)容豐富、精彩生動，會后大家紛紛提出了一些自己感興趣的問題，鄧海教授都做了細致的解答。講座結(jié)束后唐勇研究員代表上海有機所再次感謝鄧海教授精彩的報告。
唐勇研究員向鄧海教授頒發(fā)有機所交叉學科講座紀念牌
報告會現(xiàn)場
鄧海博士現(xiàn)任復(fù)旦大學微電子學院教授，中組部國家人才計劃、科技部02專項首席科學家，中國科學院深圳先進技術(shù)研究院高密度電子封裝材料與器件廣東省重點實驗室學術(shù)委員會委員。1988年畢業(yè)于中山大學，1992年在京都大學獲得碩士學位。1995年在東京工業(yè)大學獲得博士學位。分別在阿克隆大學和加州大學伯克利分校任博士后，他于1998年受聘RohmHass的“技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)輪崗職位”。在2015年加入復(fù)旦大學之前，他在半導(dǎo)體光刻行業(yè)工作了15年，曾擔任TOK fellow并擁有13年的Intel研發(fā)經(jīng)驗。主管90nm到32 nm光刻材料的研發(fā)、選用。他曾在頂級期刊上發(fā)表30多篇學術(shù)論文，發(fā)明了10項美國專利。回國后，研發(fā)5nm分辨率DSA快速圖形化材料，解決了DSA需長時間、高溫度圖形化的關(guān)鍵問題。同時，面向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界需求，研發(fā)ArF光刻膠，填補了國內(nèi)空白。已發(fā)表多篇論文、申請了多項美國中國發(fā)明專利。
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